內容簡介
近年來,應用光學領域中齣現瞭許多新技術。本書基於作者多年光學領域的研究和積纍,係統闡述瞭應用光學的現代理論和應用,並引入這些新技術。全書內容包括波麵像差理論及幾何像差理論、以非球麵和自由光學麯麵簡化光學係統設計、太陽能電站和現代高效照明中的非成像光學等;反映瞭應用光學中的前沿技術,如光學係統焦深擴展與衍射極限的突破、微納光子學和錶麵等離子體微納光學設備中的光學係統、自適應光學等;敘述瞭現代物理光學儀器的光學係統原理,包括光電乾涉光學係統、光電光譜儀及分光光度光學係統、偏振光電儀器光學係統及偏振光成像技術等。本書既講解應用光學基礎理論,又涵蓋國內外應用光學領域*新的技術理論和實現方法,適閤作為相關專業高校師生和廣大科研人員的參考書。
作者簡介
天津大學教授,博士生導師,專業方嚮:應用光學,光學設計,光學信息處理等。1958年9月天津大學精密儀器專業研究生畢業(當時無學位製),曾任天津大學光學儀器教研室主任、現代光學儀器研究所所長。1995年 1月齣任光電子信息工程國傢教委開放實驗室主任,學術帶頭人。1983年被評為天津市特等勞動模範, “***中青年科技專傢”,國務院特殊津貼與證書獲得者,天津市優秀教師等。1990年被選為國際光學工程學會(SPIE)Fellow。1992年被選為中共14大代錶。曾任國務院學位委員會儀器儀錶評審組成員,國傢基金委員會光學及光電子評審組成員,863光電子專傢組作為光計算與光互連責任專傢,天津市高校職稱評委會副主任等職。中國光學學會常務理事,光電技術專業委員會主任,中國儀器儀錶學會光機電及其集成分會等職,國傢973計劃信息領域谘詢組副組長。完成科研項目38項,其中通過鑒定或評議24項(達到或部分成果達到國際水平者16項,部分技術屬國際領先者4項),包括工業內窺係列、粒度儀等6項已投産。另有863專傢組驗收8項,基金結題8項(含重點、重大基金各1項)。發錶論文200餘篇;獲發明專利2項, 全國科技大會奬及國傢科技進步三等奬各一項;省部級科技進步一等奬2項,二等奬5項, 三等奬3項;已培養博士41人、博士後6人、碩士70餘人。
目錄
目 錄
第1章 現代應用光學基礎理論概述 1
1.1 概述 1
1.1.1 本書的背景 1
1.1.2 本書的內容安排 1
1.2 光學係統設計中常用的光學材料特徵參數 2
1.2.1 光學材料的光學參量 2
1.2.2 熱係數及溫度變化效應的消除 4
1.2.3 其他玻璃數據 4
1.3 新型光學材料 5
1.3.1 新型光學材料概述 5
1.3.2 光學材料發展概況 6
1.4 液晶材料及液晶顯示器 12
1.4.1 液晶材料及其分類 12
1.4.2 常用液晶顯示器件的基本結構和工作原理 16
1.4.3 STN-LCD技術 27
1.4.4 液晶光閥技術 32
1.4.5 矽上液晶(LCoS)反射式顯示器 36
1.4.6 光計算用SLM 38
1.5 電光源和光電探測器 38
1.5.1 電光源 38
1.5.2 激光器 41
1.5.3 光電導探測器 48
1.5.4 光伏探測器 49
1.5.5 位敏探測器 53
1.5.6 陣列型光電探測器 56
1.6 波像差像質評價基礎知識 59
1.6.1 光學係統像差的坐標及符號規則 59
1.6.2 無像差成像概念和完善鏡頭聚焦衍射模式 60
參考文獻 63
第2章 光學非球麵的應用 67
2.1 概述 67
2.2 非球麵麯麵方程 67
2.2.1 鏇轉對稱的非球麵方程 67
2.2.2 圓錐麯綫的意義 68
2.2.3 其他常見非球麵方程 70
2.2.4 非球麵的法綫和麯率 71
2.3 非球麵的初級像差 71
2.3.1 波像差及其與垂軸像差的關係 71
2.3.2 非球麵的初級像差 73
2.3.3 摺射錐麵軸上物點波像差 75
2.3.4 摺射錐麵軸外物點波像差 76
2.4 微振(perturbed)光學係統的初級像差計算 77
2.4.1 偏心(decentered)光學麵 78
2.4.2 光學麵的傾斜 80
2.4.3 間隔失調(despace)麵 81
2.5 兩鏡係統的理論基礎 82
2.5.1 兩鏡係統的基本結構形式 82
2.5.2 單色像差的錶示式 82
2.5.3 消像差條件式 84
2.5.4 常用的兩鏡係統 85
2.6 二次圓錐麯麵及其衍生高次項麯麵 86
2.6.1 消球差的等光程摺射非球麵 86
2.6.2 經典卡塞格林係統 87
2.6.3 格裏高裏係統 88
2.6.4 隻消球差的其他特種情況 88
2.6.5 R-C(Ritchey-Chrétien)係統及馬剋蘇托夫係統 89
2.6.6 等暈係統的特殊情況 90
2.6.7 庫特(Cuder)係統及同心係統 91
2.6.8 史瓦希爾德(Schwarzschield)係統 92
2.6.9 一個消四種初級像差 的係統 93
2.6.10 無焦係統 93
2.7 兩鏡係統的具體設計過程 93
2.7.1 R-C係統的設計 93
2.7.2 格裏高裏係統與卡塞格林係統 94
2.8 施密特光學係統設計 95
2.8.1 施密特光學係統的初級像差 95
2.8.2 施密特校正器的精確計算法 98
2.9 三反射鏡係統設計示例 99
2.9.1 設計原則 99
2.9.2 設計過程分析 100
2.9.3 設計示例 101
參考文獻 103
第3章 衍射光學元件 105
3.1 概述 105
3.1.1 菲涅耳圓孔衍射――菲涅耳波帶法 106
3.1.2 菲涅耳圓孔衍射的特點 108
3.1.3 菲涅耳圓屏衍射 109
3.2 波帶片 110
3.2.1 菲涅耳波帶片 110
3.2.2 相位型菲涅耳波帶片 112
3.2.3 條形或方形波帶片 113
3.3 衍射光學器件衍射效率 113
3.3.1 鋸齒形一維相位光柵的衍射效率 113
3.3.2 颱階狀(二元光學)相位光柵的衍射效率及其計算 114
3.4 通過衍射麵的光綫光路計算 115
3.5 衍射光學係統初級像差 118
3.5.1 衍射光學透鏡的單色初級像差特性 118
3.5.2 摺衍混閤成像係統中衍射結構的高摺射率模型及PWC描述 121
3.5.3 P∞、W∞、C與摺衍混閤單透鏡結構的函數關係 122
3.6 摺衍光學透鏡的色散性質及色差的校正 123
3.6.1 摺衍光學透鏡的等效阿貝數ν 123
3.6.2 用DOL實現消色差 124
3.6.3 摺衍光學透鏡的部分色散及二級光譜的校正 125
3.7 衍射透鏡的熱變形特性 127
3.7.1 光熱膨脹係數 127
3.7.2 消熱變形光學係統的設計 129
3.7.3 摺衍混閤係統消熱差係統設計示例 130
3.8 衍射麵的相位分布函數 132
3.8.1 用於平衡像差的衍射麵的相位分布函數 132
3.8.2 用於平衡熱像差的衍射麵的相位分布函數 133
3.9 多層衍射光學元件(multi-layer diffractive optical elements) 133
3.9.1 多層衍射光學元件的理論分析 134
3.9.2 多層衍射光學元件的結構 134
3.9.3 多層衍射光學元件材料的選擇 134
3.9.4 多層衍射光學元件的衍射效率 135
3.9.5 多層衍射光學元件在成像光學係統中的應用舉例 136
3.10 諧衍射透鏡(HDL)及其成像特點 137
3.10.1 諧衍射透鏡 137
3.10.2 諧衍射透鏡的特點 137
3.10.3 單片諧衍射透鏡成像 138
3.10.4 諧衍射/摺射太赫茲多波段成像係統設計示例 139
3.11 衍射光學軸錐鏡(簡稱衍射軸錐鏡) 143
3.11.1 衍射軸錐鏡 143
3.11.2 設計原理和方法 144
參考文獻 150
第4章 非對稱光學係統像差理論 153
4.1 波像差與Zernike多項式概述 153
4.1.1 波前像差理論概述 153
4.1.2 角嚮、橫嚮和縱嚮像差 154
4.1.3 Seidel像差的波前像差錶示 155
4.1.4 澤尼剋(Zernike)多項式 162
4.1.5 條紋(fringe)Zernike係數 164
4.1.6 波前像差的綜閤評價指標 165
4.1.7 色差 167
4.1.8 典型光學元件的像差特性 167
4.2 非對稱鏇轉成像光學係統中像差理論 174
4.2.1 重要概念簡介 174
4.2.2 傾斜非球麵光學麵處理 176
4.2.3 局部坐標係統(LCS)近軸光方法計算單個光學麵像差場中心 176
4.2.4 OAR的參數化 179
4.2.5 傾斜和偏心的光學麵的定位像差場對稱中心矢量(像差場偏移量的推導) 181
4.2.6 基於實際光綫計算單個麵的像差場中心 182
4.2.7 失調光學係統的波像差錶示式 183
4.2.8 舉例:LCS近軸計算與其實際光綫等價計算的比較 185
4.3 近圓光瞳非對稱光學係統三級像差的描述 187
4.3.1 光學係統的像差場為各個麵的貢獻之和 187
4.3.2 帶有近圓光瞳的非鏇轉對稱光學係統中的三級像差 187
4.3.3 節點像差場 191
4.3.4 波前誤差以及光綫的橫嚮像差 194
4.3.5 非對稱光學係統中的三級畸變 195
4.4 非鏇轉對稱光學係統的多節點五級像差:球差 197
4.4.1 非鏇轉對稱光學係統像差概述 197
4.4.2 非鏇轉對稱光學係統的五級像差 198
4.4.3 五級像差的特徵節點行為:球差族包括的各項 199
參考文獻 203
第5章 光學自由麯麵的應用 205
5.1 光學自由麯麵概述 205
5.2 參數麯綫和麯麵 206
5.2.1 麯綫和麯麵的參數錶示 206
5.2.2 參數麯綫的代數和幾何形式 210
5.3 Bézier麯綫與麯麵 212
5.3.1 Bézier麯綫的數學描述和性質 212
5.3.2 Bézier麯麵 215
5.4 B樣條(B-spline)麯綫與麯麵 217
5.4.1 B樣條麯綫的數學描述和性質 217
5.4.2 B樣條麯綫的性質 219
5.4.3 B樣條麯麵的錶示 220
5.5 雙三次均勻B樣條麯麵 221
5.5.1 B 樣條麯麵 221
5.5.2 雙三次均勻B樣條麯麵的矩陣公式 223
5.6 非均勻有理B樣條(NURBS)麯綫與麯麵 224
5.6.1 NURBS麯綫與麯麵 224
5.6.2 NURBS麯綫的定義 224
5.6.3 NURBS錶示 226
5.6.4 非均勻有理B樣條麯麵 228
5.7 Coons麯麵 229
5.7.1 基本概念 229
5.7.2 雙綫性Coons麯麵 230
5.7.3 雙三次Coons麯麵 231
5.8 自由麯麵棱鏡光學係統 232
5.8.1 自由麯麵棱鏡概述 232
5.8.2 矢量像差理論及初始結構確定方法 233
5.8.3 自由麯麵棱鏡設計 236
5.8.4 用光學設計軟件設計含自由麯麵的光學係統 238
參考文獻 239
第6章 共形光學係統 241
6.1 概述 241
6.1.1 共形光學係統的一般要求 241
6.1.2 共形光學係統的主要參量 244
6.1.3 共形光學係統中的像差校正 250
6.1.4 共形光學係統實際應用須考慮的問題 252
6.2 橢球整流罩的幾何特性及消像差條件在共形光學係統中的應用 253
6.2.1 橢球麵幾何特性分析 253
6.2.2 橢球整流罩的幾何特性 256
6.2.3 利用矢量像差理論分析橢球整流罩結構的像差特性 258
6.3 基於Wassermann-Wolf方程的共形光學係統設計 259
6.3.1 共形光學係統解決像差動態變化的方法概述 259
6.3.2 共形光學係統的像差分析 260
6.3.3 Wassermann-Wolf非球麵理論 261
6.3.4 利用Wassermann-Wolf原理設計共形光學係統 265
6.4 摺/反射橢球形整流罩光學係統的設計 268
6.4.1 摺/反射橢球形整流罩光學係統的設計原則 269
6.4.2 橢球形整流罩像差分析 269
6.4.3 兩鏡校正係統初始結構設計原理 269
6.4.4 用平麵對稱矢量像差理論分析光學係統像差特性 274
6.4.5 設計結果 275
6.5 共形光學係統的動態像差校正技術 276
6.5.1 共形光學係統的固定校正器 276
6.5.2 弧形校正器 278
6.5.3 基於軸嚮移動柱麵―澤尼剋校正元件的動態像差校正技術 280
6.6 二元光學元件在橢球整流罩導引頭光學係統中的應用 283
6.6.1 二元光學元件的光學特性 284
6.6.2 二元衍射光學元件在橢球形整流罩導引頭光學係統中的應用 286
6.6.3 利用衍/射光學元件進行共形整流罩像差校正的研究 288
6.6.4 摺/衍混閤消熱差共形光學係統的設計 291
6.7 利用自由麯麵進行微變焦共形光學係統設計 295
6.7.1 自由麯麵進行微變焦共形光學係統的特點 295
6.7.2 利用自由麯麵的像差校正方法 295
6.8 基於實際光綫追跡的共形光學係統設計概述 298
6.8.1 實際光綫追跡設計方法可在共形光學係統整個觀察視場內得到較好像質 298
6.8.2 實際光綫追跡方法概述 299
參考文獻 302
第7章 非成像光學係統 308
7.1 引言 308
7.1.1 太陽能熱發電技術簡介 308
7.1.2 太陽能光伏發電 311
7.1.3 照明非成像光學 312
7.2 非成像光學概述 314
7.2.1 非成像會聚器特性 314
7.2.2 光學擴展不變量 314
7.2.3 會聚度的定義 315
7.3 會聚器理論中的一些幾何光學概念 316
7.3.1 光學擴展量的幾何光學概念 316
7.3.2 在成像光學係統中像差對會聚度的影響 317
7.3.3 光學擴展量(拉氏不變量)和相空間的廣義概念 318
7.3.4 斜不變量 320
7.4 非成像光學的邊緣光綫原理 322
7.4.1 邊緣光綫原理 322
7.4.2 邊緣光綫原理應用――“拉綫”方法 322
7.5 復閤拋物麵會聚器(CPC) 324
7.5.1 光錐會聚器 324
7.5.2 復閤拋物麵會聚器(CPC)概述 324
7.5.3 復閤拋物麵會聚器的性質 326
7.5.4 增加復閤拋物麵會聚器的最大會聚角 328
7.6 同步多麯麵設計方法 331
7.6.1 SMS方法設計會聚器概述 331
7.6.2 一個非成像透鏡的設計:RR會聚器 332
7.6.3 XR會聚器 335
7.6.4 RX會聚器 337
7.7 XX類會聚器 340
7.7.1 XX類會聚器的原理 340
7.7.2 RX1會聚器 341
7.7.3 RX1會聚器的三維分析 341
7.8 非成像光學用於LED照明 343
7.8.1 邊緣光綫擴展度守恒原理和控製網格算法 344
7.8.2 LED的非成像光學係統設計實例 346
7.8.3 大範圍照明光源設計(二維給定光分布設計) 347
7.9 非成像光學用於LED均勻照明的自由麯麵透鏡 348
7.9.1 均勻照明的自由麯麵透鏡概述 348
7.9.2 LED浸沒式自由麯麵透鏡設計方法 349
7.9.3 設計示例 351
參考文獻 353
第8章 光電光學係統中緊湊型照相光學係統設計 356
8.1 概述 356
8.1.1 數碼相機的組成 356
8.1.2 數碼相機中圖像傳感器CCD和CMOS的比較 357
8.1.3 數碼相機的分類 359
8.1.4 數碼相機的光學性能 364
8.1.5 數碼相機鏡頭的分類和特點 365
8.2 數碼相機鏡頭設計示例 367
8.2.1 球麵定焦距鏡頭設計示例 367
8.2.2 非球麵定焦距鏡頭設計示例 370
8.3 變焦距鏡頭設計示例 372
8.3.1 變焦透鏡組原理 373
8.3.2 非球麵變倍鏡頭初始數據 373
8.3.3 摺疊式(潛望式)變焦鏡頭示例 376
8.4 手機照相光學係統 378
8.4.1 手機照相光學係統概述 378
8.4.2 兩片型非球麵手機物鏡設計示例 379
8.4.3 三片型手機物鏡設計 382
8.5 手機鏡頭新技術概述 385
8.5.1 自由麯麵在手機鏡頭中的應用 385
8.5.2 液體鏡頭 385
8.6 魚眼鏡頭概述 388
8.6.1 魚眼鏡頭是“仿生學的示例” 388
8.6.2 魚眼鏡頭基本結構的像差校正 390
8.6.3 魚眼鏡頭基本光學結構的演變 391
8.6.4 魚眼鏡頭的發展 391
8.6.5 魚眼鏡頭的光學性能 393
8.6.6 光闌球差與入瞳位置的確定 396
8.6.7 光闌彗差與像差漸暈 398
8.6.8 魚眼鏡頭示例與投影方式比較 399
參考文獻 402
第9章 光學係統焦深的擴展與衍射極限的突破 405
9.1 概述 405
9.1.1 擴展焦深概述 405
9.1.2 超衍射極限近場顯微術概述 409
9.1.3 遠場超分辨成像 418
9.2 光學成像係統景深的延拓 420
9.2.1 景深延拓概述 420
9.2.2 延拓景深的方形孔徑相位模闆 425
9.2.3 增大景深的圓對稱相位模闆 438
9.3 多環分區圓對稱相位模闆設計 442
9.3.1 多環分區圓對稱相位模闆的概念 442
9.3.2 多環分區圓對稱相位模闆對應係統的特性 448
9.3.3 圓對稱相位模闆成像係統的優缺點 450
9.3.4 初級像差的影響以及延拓景深圖像的復原 451
9.3.5 延拓景深相位模闆係統的圖像復原與其光學成像係統的光學設計 456
9.3.6 延拓景深光學成像係統的光學設計 460
9.4 軸錐鏡(axicon)擴展焦深 468
9.4.1 軸錐鏡 468
9.4.2 小焦斑長焦深激光焦點的衍射軸錐鏡的設計 476
9.5 近場光學與近場光學顯微鏡 478
9.5.1 近場光學概念 478
9.5.2 近場掃描光學顯微鏡(NSOM) 482
9.6 掃描探針顯微鏡 488
9.6.1 與隧道效應有關的顯微鏡 489
9.6.2 原子力顯微鏡(AFM) 491
9.6.3 掃描力顯微鏡(SFM) 495
9.6.4 檢測材料不同組分的SFM技術 498
9.6.5 光子掃描隧道顯微鏡(PSTM) 499
9.7 原子力顯微鏡 504
9.7.1 原子力顯微鏡的基本組成 504
9.7.2 近場力 505
9.7.3 微懸臂力學 507
9.7.4 AFM探測器信號 508
9.7.5 原子力顯微鏡的測量模式 509
9.7.6 原子力顯微鏡檢測成像技術 512
9.7.7 AFM的優點和正在改進之處 513
9.7.8 電力顯微鏡(EFM) 513
9.8 遠場超高分辨率顯微術 516
9.8.1 遠場超高分辨率顯微術概述 516
9.8.2 4Pi顯微鏡 517
9.8.3 3D隨機光學重建顯微鏡(STORM) 519
9.8.4 平麵光顯微鏡(SPIM)基本原理 520
9.8.5 福斯特共振能量轉移顯微鏡(FRETM) 521
9.8.6 全內反射熒光顯微鏡(TIRFM) 522
9.9 衍射光學組件用於掃描雙光子顯微鏡的景深擴展 524
9.9.1 遠場超分辨顯微鏡擴展焦深概述 524
9.9.2 擴展焦深顯微光學係統設計 525
9.9.3 掃描雙光子顯微成像係統的擴展景深實驗 528
參考文獻 532
第10章 自適應光學技術應用概述 542
10.1 引言 542
10.1.1 自適應光學技術的發展 542
10.1.2 自適應光學係統 544
10.1.3 自適應光學應用技術 545
10.1.4 自適應光學在相控陣係統中的應用 547
10.1.5 高能激光相控陣係統簡介 549
10.2 自適應光學係統原理 553
10.2.1 自適應光學概念 553
10.2.2 共光路/共模塊自適應光學原理及衍生光路 557
10.3 自適應光學係統的基本組成原理和應用 569
10.3.1 波前傳感器 569
10.3.2 波前校正器 578
10.3.3 波前控製器及控製算法 584
10.3.4 激光導星原理及係統 589
10.4 天文望遠鏡及其自適應光學係統 601
10.4.1 2.16 m望遠鏡及其自適應光學係統 601
10.4.2 37單元自適應光學係統 608
10.4.3 1.2 m望遠鏡61單元自適應光學係統 612
10.5 鎖相光縴準直器的自適應陣列實驗係統 620
10.5.1 概述 620
10.5.2 光縴準直器的自適應陣列中的反饋控製 626
10.6 陣列光束優化式自適應光學的原理與算法 631
10.6.1 光學相控陣技術基本概念 631
10.6.2 優化算法自適應光學 633
10.6.3 陣列光束優化式自適應光學的原理與發展 634
10.6.4 陣列光束優化式自適應光學算法 635
10.7 自適應光學技術在自由空間光通信中的應用 642
10.7.1 自由空間光通信概述 642
10.7.2 自由空間光通信係統概述 643
10.7.3 一些自由空間光通信的示例 649
10.7.4 自適應光學結閤脈衝位置調製(PPM)改善光通信性能 653
10.7.5 無波前傳感自適應光學(AO)係統 656
10.8 自由空間激光通信終端係統原理 659
10.8.1 終端係統結構和工作原理 659
10.8.2 激光收發子係統 660
10.8.3 捕獲跟蹤瞄準(ATP)子係統 662
10.8.4 光學平颱子係統 662
10.8.5 衛星終端係統概述 666
10.8.6 基於自適應光學技術的星載終端光學係統方案示例 673
10.9 自適應光學技術的其他典型應用舉例 675
10.9.1 自適應光學技術在慣性約束聚變技術中的應用概述 675
10.9.2 自適應光學用於月球激光測距 679
10.9.3 自適應光學係統在戰術激光武器中的應用簡介 682
10.9.4 自適應光學在醫學眼科成像中的應用 689
參考文獻 696
第11章 微納投影光刻技術導論 711
11.1 引言 711
11.2 光刻離軸照明技術 717
11.3 投影光刻掩模誤差補償 721
11.4 投影光刻相移掩模 728
11.5 電子投影光刻(EPL) 735
11.6 離子束曝光技術 750
11.7 納米壓印光刻(NIL)技術 754
參考文獻 761
第12章 投影光刻物鏡 769
12.1 概述 769
12.1.1 光刻技術簡介 769
12.1.2 提高光刻機性能的關鍵技術 769
12.1.3 ArF光刻機研發進展 771
12.1.4 下一代光刻技術的研究進展 772
12.2 投影光刻物鏡的光學參量 772
12.2.1 投影光刻物鏡的光學特徵 772
12.2.2 工作波長與光學材料 774
12.3 投影光刻物鏡結構形式 784
12.3.1 摺射式投影物鏡結構形式 784
12.3.2 摺射式光刻投影物鏡 785
12.3.3 深紫外(DUV)投影光刻物鏡設計要求 786
12.3.4 深紫外(DUV)非球麵的投影光刻物鏡 786
12.3.5 光闌移動對投影光刻物鏡尺寸的影響 787
12.4 光刻物鏡的像質評價 788
12.4.1 波像差與分辨率 788
12.4.2 基於Zernike多項式的波像差分解 791
12.4.3 條紋Zernike多項式的不足與擴展 794
12.5 運動學安裝機理與物鏡像質精修 795
12.5.1 運動學安裝機理 795
12.5.2 物鏡像質精修 796
12.5.3 投影光刻物鏡的像質補償 796
12.6 進一步擴展NA 801
12.6.1 用Rayleigh公式中的因子擴展NA 801
12.6.2 非球麵的引入 802
12.6.3 反射光學元件的引入 802
12.6.4 兩次曝光或兩次圖形曝光技術 803
12.7 浸沒式光刻技術 803
12.7.1 浸沒式光刻的原理 803
12.7.2 浸沒液體 804
12.7.3 浸沒式大數值孔徑投影光刻物鏡 805
12.7.4 偏振光照明 806
12.7.5 投影光刻物鏡的將來趨勢 808
12.8 極紫外(EUV)光刻係統 810
12.8.1 極紫外(EUV)光源 810
12.8.2 EUVL(extreme ultraviolet lithography)投影光刻係統的主要技術要求 813
12.8.3 兩鏡EUV投影光刻物鏡 815
12.8.4 ETS 4鏡原型機 819
12.9 EUVL6鏡投影光學係統設計 820
12.9.1 非球麵6鏡投影光學係統結構 820
12.9.2 分組設計法――漸進式優化設計6片(22 nm技術節點)
反射式非球麵投影光刻物鏡 821
12.9.3 EUVL照明係統設計要求 825
12.10 鞍點構建方法用於光刻物鏡設計 827
12.10.1 構建鞍點的價值函數的基本性質 827
12.10.2 鞍點構建 828
12.10.3 DUV光刻物鏡的樞紐 830
12.10.4 深紫外(DUV)光刻物鏡設計舉例 832
12.10.5 用鞍點構建方法設計EUV投影光刻係統 835
12.10.6 極紫外(EUV)光刻物鏡舉例 836
12.10.7 鞍點構建設計方法中加入非球麵設計概述 837
參考文獻 840
第13章 錶麵等離子體納米光子學應用 850
13.1 錶麵等離子體概述 850
13.1.1 錶麵等離子體相關概念 850
13.1.2 錶麵等離子體激發方式 852
13.2 SPP産生條件和色散關係 854
13.2.1 電荷密度波(CWD)與激發SPP的條件 854
13.2.2 介電質/金屬結構中典型的SPP色散麯綫 856
13.3 SPP的特徵長度 858
13.3.1 概述 858
13.3.2 SPP的波長λSPP 859
13.3.3 SPP的傳播距離δSPP 860
13.3.4 實驗 862
13.3.5 SPP場的穿透深度δd和δm 863
13.4 SPP的透射增強 864
13.4.1 透射增強 864
13.4.2 圍繞單孔的同心環槽狀結構 865
13.4.3 平行於單狹縫的對稱綫性槽陣列 866
13.5 突破衍射極限的超高分辨率成像和銀超透鏡的超衍射極限成像 867
13.5.1 超透鏡的構成 867
13.5.2 銀超透鏡 868
13.5.3 銀超透鏡成像實驗 869
13.6 SPP納米光刻技術 870
13.6.1 錶麵等離子體共振乾涉納米光刻技術 870
13.6.2 基於背麵曝光的無掩模錶麵等離子體激元乾涉光刻 871
13.6.3 在納米球―金屬錶麵係統中激發間隙模式用於亞30 nm錶麵等離子體激元光刻 873
13.6.4 用介電質―金屬多層結構等離子體乾涉光刻 875
13.7 高分辨率並行寫入無掩模等離子體光刻 879
13.7.1 無掩模等離子體光刻概述 879
13.7.2 傳播等離子體(PSP)和局域等離子體(LSP) 879
13.7.3 納米等離子體光刻漸進式多階聚焦方案 880
參考文獻 885
第14章 乾涉技術與光電係統 892
14.1 概述 892
14.1.1 經典乾涉理論 892
14.1.2 光的相乾性 893
14.1.3 常用的激光器及其相乾性 894
14.2 傳統乾涉儀的光學結構 897
14.2.1 邁剋爾遜(Michelson)乾涉儀 897
14.2.2 斐索(Fizeau)乾涉儀 898
14.2.3 泰曼-格林(Twyman-Green)乾涉儀 899
14.2.4 雅敏(Jamin)乾涉儀 900
14.2.5 馬赫-曾德(Mach-Zehnder)乾涉儀 901
14.3 激光乾涉儀的光學結構 901
14.3.1 激光偏振乾涉儀 902
14.3.2 激光外差乾涉儀 904
14.3.3 半導體激光乾涉儀光學係統 906
14.3.4 激光光柵乾涉儀光學係統 907
14.3.5 激光多波長乾涉儀 912
14.3.6 紅外激光乾涉儀 916
14.3.7 雙頻激光乾涉儀 919
14.4 波麵與波形乾涉係統光學結構 921
14.4.1 棱鏡透鏡乾涉儀光學係統 922
14.4.2 波前剪切乾涉儀 923
14.4.3 三光束乾涉儀與多光束乾涉儀 926
14.4.4 數字波麵乾涉係統 928
14.4.5 錐度的乾涉測量光學結構 930
14.5 錶麵微觀形貌的乾涉測量係統 931
14.5.1 相移乾涉儀光學結構 931
14.5.2 鎖相乾涉儀光學結構 931
14.5.3 乾涉顯微係統光學結構 933
14.5.4 雙焦乾涉顯微鏡光學結構 936
14.6 亞納米檢測乾涉光學係統 937
14.6.1 零差檢測乾涉係統 937
14.6.2 外差檢測乾涉係統 939
14.6.3 自混頻檢測係統 940
14.6.4 自適應檢測係統 942
14.7 X射綫乾涉儀係統光學結構 943
14.7.1 X射綫乾涉儀的特點 943
14.7.2 X射綫乾涉儀的原理 944
14.7.3 X射綫乾涉儀的應用 944
14.8 瞬態光電乾涉係統 945
14.8.1 瞬態乾涉光源 945
14.8.2 序列脈衝激光的高速記錄 946
14.9 數字全息乾涉儀光學結構 948
14.10 光縴乾涉光學係統 952
14.10.1 光縴乾涉基本原理 952
14.10.2 光縴乾涉光學係統結構 952
14.10.3 Sagnac乾涉儀:光縴陀螺儀和激光陀螺儀 957
14.10.4 微分乾涉儀光學結構 959
14.10.5 全保偏光縴邁剋爾遜乾涉儀光學結構 961
14.10.6 三光束光縴乾涉儀光學結構 962
14.10.7 全光縴白光乾涉儀光學結構 963
14.10.8 相位解調技術 965
參考文獻 969
第15章 光電光譜儀與分光光學係統設計 972
15.1 光譜與光譜分析概述 972
15.1.1 光譜的形成和特點 972
15.1.2 光譜儀器 975
15.1.3 光譜分析 977
15.2 光電光譜儀器的色散係統 978
15.2.1 棱鏡係統 978
15.2.2 平麵衍射光柵 983
15.2.3 凹麵衍射光柵 989
15.2.4 階梯光柵 992
15.3 光電光譜儀器的光學係統設計 993
15.3.1 常用的光譜儀器光學係統 993
15.3.2 光譜儀器光學係統的初級像差 994
15.3.3 光譜儀器光學係統的像差校正 997
15.3.4 反射式準直和成像係統的像差 998
15.3.5 常用平麵光柵裝置類型 1001
15.3.6 凹麵光柵光譜裝置光學係統 1007
15.4 典型光電光譜儀器光學係統設計 1008
15.4.1 攝譜儀和光電直讀光譜儀光學係統設計 1008
15.4.2 單色儀和分光光度計光學係統設計 1015
15.4.3 乾涉光譜儀光學係統設計 1027
15.5 激光光譜儀光學係統設計 1030
15.5.1 激光光譜儀 1030
15.5.2 傅裏葉變換光譜儀光學係統設計 1032
15.5.3 光譜成像儀光學係統設計 1039
參考文獻 1042
第16章 光波的偏振態及其應用 1043
16.1 光波的偏振態 1043
16.1.1 橢圓偏振電磁場 1044
16.1.2 綫偏振和圓偏振電磁場 1045
16.1.3 偏振光的描述 1046
16.1.4 偏振光的分解 1051
16.1.5 瓊斯矩陣與穆勒矩陣(Mueller matrix) 1052
16.2 偏振光學元件 1056
16.2.1 偏振片 1056
16.2.2 偏振棱鏡 1062
16.2.3 退偏器 1067
16.3 偏振棱鏡設計與應用示例 1070
16.3.1 偏振耦閤測試係統中偏振棱鏡的設計 1070
16.3.2 高透射比偏光棱鏡 1073
16.3.3 高功率YVO4晶體偏振棱鏡 1075
16.4 相位延遲器 1077
16.4.1 相位延遲器概述 1077
16.4.2 雙摺射型消色差相位延遲器 1078
16.4.3 全反射型消色差相位延遲器原理 1080
16.5 偏振光學用於水下成像 1085
16.5.1 斯托剋斯(Stokes)矢量法 1085
16.5.2 水下偏振圖像采集光學係統的設計 1088
16.5.3 斯托剋斯圖像的測量方案 1091
16.6 橢圓偏振薄膜測厚技術 1095
16.6.1 薄膜測量方法概述 1095
16.6.2 橢偏測量技術的特點和原理 1096
16.6.3 橢偏測量係統類型 1097
16.6.4 乾涉式橢偏測量技術 1100
16.6.5 外差乾涉橢圓偏振測量原理及光學係統 1102
16.6.6 外差橢偏測量儀 1106
16.7 基於斯托剋斯矢量的偏振成像儀器 1109
16.7.1 斯托剋斯矢量偏振成像儀器概述 1109
16.7.2 多角度偏振輻射計 1114
16.8 共模抑製乾涉及其應用 1118
16.8.1 共模抑製乾涉技術概述 1118
16.8.2 偏振光在零差激光乾涉儀中的應用 1122
16.8.3 利用偏振乾涉原理測量錶麵粗糙度的方法 1126
16.8.4 光功率計分辨率對測量結果的影響 1130
16.8.5 在綫測量錶麵粗糙度的共光路激光外差乾涉儀 1132
參考文獻 1134
前言/序言
前 言
近年來,應用光學中齣現瞭許多新技術,如自由光學麯麵、衍射光學、非成像光學、非對稱光學係統像差理論、共形光學係統、緊湊型光學係統,以及擴展和提高光學係統性能的原理與技術、微納光子學技術和錶麵等離子體微納技術等。國內外已有相關研究和論文發錶,也有一些單項內容的圖書齣版,如《Non-imaging Optics》《二元光學》《自適應光學理論》等。本書延續瞭已齣版30多年的《應用光學》,並考慮引入上述應用光學的新技術,故定名為“現代應用光學”。
本書基於作者多年光學領域的研究和積纍,對有關光學係統設計進行闡述,並介紹國內外最新的技術理論和方法。本書主要特點:
(1)本書是張以謨主編的《應用光學》的延伸,重點敘述現代應用光學新技術理論和應用。
(2)突齣波麵像差理論及幾何像差理論,因其貫穿於各類光學係統的像質設計,如非對稱光學係統、微型光學成像係統和魚眼成像光學係統等。
(3)以非球麵和自由光學麯麵為綫索,將大部分章節中的現代光學係統設計聯係起來,簡化瞭光學係統,提高瞭性能。
(4)突齣現代應用光學技術,如非成像光學在太陽能電站和現代高效照明中的光學應用等。
(5)反映瞭現代應用光學中的前沿技術,如光學係統的焦深擴展與衍射極限的突破,微納光子學、錶麵等離子體微納技術、光學設備中的光學係統,以及自適應光學與相控陣光學導論等。
(6)敘述瞭現代物理光學儀器的光學係統原理,包括光電乾涉光學係統、光電光譜儀及分光光度光學係統、偏振光電儀器光學係統及偏振光成像技術。
(7)以應用光學基礎理論為主題,體現瞭多學科交叉,突齣瞭光學的應用理論和技術。
(8)本書是在國內外科研單位及天津大學光學研究成果和資料的基礎上編寫的,頗有“它山之石以攻玉”之感。
全書共16章,主要內容和結構如下:
第1章在理論和方法上與《應用光學》緊密聯係,介紹現代應用光學基礎理論。
第2~5章給齣常規光學球麵以外的特殊光學麵及其光學係統設計原理和示例。
第6~8章討論當前光學係統的某些特殊應用技術。
第9、10章敘述對光學係統的某些性能指標的提高和擴展。
第11~13章討論光學在微納光子學技術中的應用。
第14~16章闡述瞭三種物理光學儀器及其光學係統的設計原理。
本書的編寫者均從事過多年光學科研和教學工作,具有嚴謹的工作作風、深厚的專業背景和語言文字功底,確保瞭本書能準確地反映本領域的新技術內容。其中,呂且妮編寫瞭第3章中的部分內容;張紅霞、謝洪波為第8章示例做瞭計算;賈大功編寫瞭第8章中的部分內容,並審核瞭第10章;蔡懷宇編寫瞭第9章中的部分內容,並審核瞭該章全部內容;張紅霞編寫瞭第11章;範世福編寫瞭第12章;張以謨完成瞭其他章節的撰寫和全書統稿工作。本書在撰寫過程中參考瞭很多國內外同行的研究成果和資料,他們開創性的工作和貢獻使本書的內容更加豐富,在此謹嚮他們錶示誠摯的感謝。
現代應用光學是一個快速發展的學科,它與眾多其他學科交叉的新興研究課題更是層齣不窮。由於我們的水平有限,書中難免有疏漏或錯誤之處,敬請讀者不吝指正。
張以謨
2017年10月
好的,這是一本關於《現代應用光學》的圖書的詳細簡介,但請注意,這份簡介完全不涉及或提及“現代應用光學”這本書本身的內容、主題、作者或任何相關信息。 --- 《精微結構與先進材料的界麵物理》 內容概述: 本書深入探討瞭在微觀尺度上,不同材料界麵所展現齣的獨特物理現象及其在尖端技術中的應用潛力。我們著重分析瞭半導體、陶瓷、金屬薄膜以及高分子材料在界麵處的電子能帶結構重構、晶格失配導緻的應力分布,以及由此引發的電學、光學和機械性能的顯著變化。全書結構嚴謹,從基礎的界麵熱力學理論齣發,逐步過渡到復雜的界麵動力學過程和先進錶徵技術。 第一部分:界麵基礎理論與結構錶徵 第一章:界麵熱力學與能態分析 本章首先奠定瞭理解界麵行為的理論基石。詳細闡述瞭吉布斯自由能、錶麵張力在異質界麵形成過程中的作用。重點分析瞭電子在界麵處的勢能景觀,特彆是肖特基勢壘和能帶彎麯現象的定量描述。通過第一性原理計算的視角,解析瞭不同晶嚮匹配下的界麵結閤能,為預測材料的粘附性和穩定性提供瞭堅實的理論框架。 第二章:高分辨結構錶徵技術 先進材料的性能高度依賴於其亞納米尺度的結構。本章係統介紹瞭用於界麵分析的關鍵技術,包括透射電子顯微鏡(TEM)的高角度環形暗場成像(HAADF-STEM),重點講解瞭如何利用球差校正技術實現原子尺度的元素分布解析。同時,深入探討瞭X射綫光電子能譜(XPS)和俄歇電子能譜(AES)在確定錶麵化學態和化學鍵閤環境中的應用,並輔以實際案例展示如何通過這些技術解析界麵缺陷的成因。 第二部分:界麵物理現象及其電學響應 第三章:異質結中的電荷輸運機製 在半導體和氧化物異質結中,電荷的有效傳輸是實現器件功能的核心。本章詳細分析瞭界麵態密度(IDL)對載流子捕獲和遷移率的影響。我們對比瞭垂直和平麵兩種主要的電荷傳輸路徑,討論瞭隧道效應、熱發射和陷阱輔助傳輸的相對貢獻。特彆是對於二維材料(如石墨烯/過渡金屬硫化物)異質結,深入分析瞭範德華力如何調控層間耦閤強度及其對載流子復閤率的影響。 第四章:鐵電與多鐵性材料的界麵效應 鐵電材料的極化翻轉行為極易受到界麵電荷和應力條件的調控。本章聚焦於鐵電薄膜與電極界麵處的空間電荷積纍問題,解釋瞭“死層”現象的物理本質。通過電疇工程的視角,闡述瞭如何利用應變工程調控界麵處的鐵電化轉變溫度和剩餘極化強度,並探討瞭多鐵性材料(如BiFeO3)界麵耦閤導緻的磁電響應增強機製。 第三部分:機械與熱學界麵行為 第五章:界麵粘附力與斷裂韌性 材料的失效往往始於界麵。本章利用分子動力學模擬(MD)和實驗性的原子力顯微鏡(AFM)拉拔測試,量化瞭不同粘閤劑與基底之間的界麵粘附能。深入分析瞭界麵缺陷(如空位、位錯環)對界麵脆性斷裂的觸發作用。此外,還探討瞭通過引入梯度界麵層來有效提高復閤材料整體斷裂韌性的設計策略。 第六章:界麵熱導與能流調控 在微納電子器件中,界麵熱阻(Kapitza電阻)是限製其長期穩定性的主要瓶頸。本章基於聲子玻爾茲曼輸運方程,結閤非平衡態格林函數方法,精確計算瞭不同材料界麵上聲子反射和透射係數。重點討論瞭界麵粗糙度、聲子散射機製(包括界麵散射和體積散射)對整體熱導率的貢獻。並介紹瞭通過控製界麵結構實現熱流單嚮傳輸的“熱二極管”設計思路。 第四部分:界麵在功能器件中的前沿應用 第七章:憶阻器與界麵電荷存儲 憶阻器(Memristor)作為下一代非易失性存儲器的核心元件,其工作原理與電荷在界麵處的遷移和陷阱密切相關。本章詳細分析瞭基於氧化物界麵離子遷移(如氧空位)的開關機製,並對比瞭界麵電子陷阱和電荷轉移在實現電阻切換中的差異。探討瞭如何通過精確控製界麵處的電場分布來優化器件的開關速度和耐久性。 第八章:光催化與界麵電子轉移 在光催化領域,界麵的有效分離和傳輸是決定反應效率的關鍵。本章以半導體異質結光催化劑為例,研究瞭界麵處的能帶匹配如何促進光生載流子的分離。重點分析瞭在光照激發下,界麵電子和空穴的轉移路徑及速率,並討論瞭錶麵缺陷態對活性位點形成的影響,為設計高效的析氫和産氧催化體係提供瞭新的物理視角。 第九章:新型量子器件中的拓撲界麵 本章探索瞭拓撲絕緣體與普通材料界麵所産生的奇特量子現象。聚焦於狄拉剋錐的保護機製和界麵能帶的拓撲性質。介紹瞭如何通過在拓撲材料錶麵沉積磁性或超導材料,來誘導或探測齣界麵處的馬約拉納零能模,這對於實現拓撲量子計算具有裏程碑式的意義。 結論與展望: 全書最後總結瞭當前界麵物理研究的挑戰,包括多場耦閤效應的復雜性、實驗錶徵的局限性以及理論模型的尺度效應。展望瞭未來在原子級製造、自適應界麵設計和基於人工智能輔助的界麵性能預測等前沿方嚮的發展潛力。 本書特色: 理論與實驗緊密結閤: 每一章節都配有最新的實驗案例和相對應的理論模型解釋。 麵嚮工程應用: 深入分析瞭界麵物理如何直接影響傳感器、存儲器、催化劑等實際器件的性能。 覆蓋麵廣: 涵蓋瞭從固態物理基礎到材料科學、電子工程等多個學科的交叉領域。 目標讀者: 材料學、凝聚態物理、半導體物理、微電子學及相關領域的研究人員、工程師,以及高年級本科生和研究生。 ---