編輯推薦
激光能量高度集中,而且便於操控,能夠進行精細加工。正因為這樣,激光加工技術的應用非常迅猛,已經形成瞭龐大的産業。同時,激光精確加工的技術本身也在蓬勃發展。作為詳細講述這一領域諸多方麵的專著,《激光精確微加工(英文影印版)》對於國內相關領域的工程師和科學傢,以及研究生來說都是不可多得的佳作。
內容簡介
小型化和高精度快速成為對很多工藝流程和産品的要求。因此,利用激光微加工技術來實現這一要求得到瞭廣泛關注。《激光精確微加工(英文影印版)》內容有16章,覆蓋瞭激光微處理技術的各個方麵,從基本概念到在無機或生物材料上的工程應用。《激光精確微加工(英文影印版)》綜述瞭在激光處理領域的研究和技術發展水平。讀者對象為本領域的研究者和研究生。
作者簡介
杉岡幸次(K. Sugioka),日本理化學研究所(RIKEN)研究員。
目錄
Process Control in Laser Material Processing
for the Micro and Nanometer Scale Domains
Henry Helvajian
1.1 Introduction
1.2 Laser Processing
1.2.1 Laser Wavelength
1.2.2 Laser Power
1.2.3 Laser Dose
1.2.4 Laser Beam
1.2.5 Laser Pulse Temporal Profile
1.2.6 Pattern Generation
1.3 Possible Steps Forward
1.4 Conclusions
References
Theory and Simulation of Laser Ablation — from Basic
Mechanisms to Applications
Laurent J. Lewis and Danny Perez
2.1 Introduction
2.2 Basic Physics
2.2.1 Light—Matter Interaction
2.2.2 Material Removal from the Target:
The Basics of Ablation
2.3 Ablation in the Thermal Regime
2.3.1 Thermodynamics
2.3.2 Conventional Wisdom: Early Theories
2.3.3 A New Understanding
2.3.4 Computer Models
2.3.5 The Femtosecond Regime
2.3.6 Picosecond Pulses and Beyond
2.3.7 Molecular Solids
2.4 Materials Processing
2.4.1 Nanoparticle Production in Solvents
2.4.2 Damages and Heat Affected Zones
2.5 Conclusions and Perspectives
References
Laser Devices and Optical Systems for Laser Precision
Micro fabrication
4 Fundamentals of Laser—Material Interaction and Application to Multiscale Surface Modification
5 Temporal Pulse Tailoring in Ultrafast Laser Manufacturing Technologies
6 Laser Nanosurgery, Manipulation, and Transportationof Cells and Tissues
7 Laser Synthesis of Nanomaterials
8 UItrafast Laser Micro— and Nanostructuring
9 3D Fabrication of Embedded Microcomponents
10 Micromachining and Patterning
11 Laser Transfer Techniques for Digital Microfabrication
12 Hybrid Laser Processing of Transparent Materials
13 Drilling, Cutting, Welding, Marking and Microforming
Index
精彩書摘
《激光精確微加工(英文影印版)》:
A number of laser processing research studies have pointed to the use of morepulses and lower fluences. Consequently, this has generated interest on exploringthe effects of tailored photon fluxes on materials processing. How might a desiredphoton flux be expressed for an application? One approach could be in the form ofprescribed information scripts in which relevant processing parameters are definedand can be implemented by appropriate light valve devices on demand [64]. For thesystem to operate efficiently, the light valves must be integrated with in situ feedbackfrom the photophysical event. This is likely to come via spectroscopic signaturesthat are sensed and analyzed for deciding the next course of action. The practicalquestion is whether a photon flux control system, such as described, could be realized when operating at near real time processing speeds. The analysis is easier to dofor a direct-write patterning tool. Assume a processing laser with 50 MHz repetitionrate (pulses separated by 20 ns) that is brought to a 1 um (dia) focus on a target.Assume also that the patterning tool can move at a hefty speed of 1 m/sec (e.g.,Aerotech Corp. ABLS000 air bearing stage) which means that the patterning toolcan service 106 spot-sizes/sec. At the maximum velocity, the average time the patterning tool spends over a single spot-size is 1 us. There are now optical sensors withsubnanosecond response times and typical electrical signal transfer times in common cabling run about 3 ns/m. Microprocessor speeds have significantly evolved inthe past 15 years with the 2007 PC CPU tests showing the Intel CORE 2 ExtremeQX6800 processor capable of over 37 GFLOPS (Giga FLoating point OperationsPer Second). Finally, in the early 1990s, there was literature on acousto-optic modulators (e.g., Ti:LiNbO3) with bandwidths near 20 GHz [70] and current analog todigital convertors (ADCs) can operate up to 2 G samples per sec (e.g., Delphi Engineering ADC3244: 2GSPS, 10 bit accuracy and an integral field programmable gatearray). Given this information and the fact that for this example the average durationof time spent over a single spot-size is 1 us, it becomes possible to assemble a control system whereby information from a sensor is analyzed by the microprocessor(e.g., for GO/NO-GO or via a complex decision tree), and this information is sentto a light switch which either adds or subtracts extra laser pulses accordingly.
……
前言/序言
現代光學製造技術:從理論到實踐的深度探索 本書旨在為讀者提供一個全麵而深入的現代光學製造技術領域的知識框架,重點關注非接觸式、高精度加工方法的最新發展與應用。全書內容覆蓋瞭從基礎物理原理到尖端工程實現的廣泛議題,特彆強調瞭如何利用先進的能量源和控製係統來應對精密光學元件製造中的嚴峻挑戰。 第一部分:基礎物理與加工機理 本部分首先迴顧瞭與高精度加工密切相關的光學、材料科學及熱力學基礎。我們將詳細闡述激光與物質相互作用的微觀過程,包括光子的吸收、電子激發、等離子體形成以及隨後的材料去除機製。不同波長(從紫外到紅外)激光在不同材料(如玻璃、晶體、金屬、半導體)中的耦閤效率和等效加工閾值被係統地量化和比較。 特彆關注的章節包括:超快激光脈衝的非熱效應。這裏深入探討瞭皮秒和飛秒激光加工中獨特的“冷加工”現象,闡明瞭如何通過極短的脈衝寬度實現最小化熱影響區(HAZ)的刻蝕和切割,這對於製造高損傷閾值光學元件至關重要。同時,本書也分析瞭傳統連續波(CW)和長脈衝激光在熱擴散、熔融和重凝固過程中的物理模型,為優化熱加載過程下的錶麵質量控製提供瞭理論依據。 第二部分:先進光學元件的製造工藝 這一部分聚焦於當前光學工業中最具挑戰性的製造任務。內容涵蓋瞭多種復雜錶麵的成型和修形技術。 自由麯麵和非球麵鏡片的加工: 我們詳細解析瞭如何利用磁流變拋光(MRF)技術實現對傳統研磨無法達到的復雜麯率的亞納米級錶麵粗糙度控製。MRF的流體力學模型、磨料的動力學行為以及工件與流體腔之間的精確耦閤機製被置於核心地位。此外,離子束拋光(Ion Beam Figuring, IBF)作為後處理的終極手段,其離子源設計、束流均勻性以及材料去除率的精確標定也被詳盡闡述。 微納結構和衍射光學元件(DOE): 本部分深入探討瞭深紫外(DUV)光刻在模具製造中的應用,以及直接激光寫入技術(Two-Photon Polymerization, TPP)在製造高摺射率聚閤物三維微結構時的優勢與限製。針對集成光學領域,本書提供瞭關於等離子體刻蝕(如反應離子刻蝕 RIE 和深亞微米深寬比的電感耦閤等離子體刻蝕 ICP-RIE)的工藝窗口分析,指導讀者在保持高側壁垂直度的同時實現材料的精確去除。 透明材料的內建(In-Volume)加工: 這部分重點介紹瞭如何利用非綫性聚焦(如剋爾透鏡效應或二次諧波産生)將能量耦閤到透明介質內部,以實現無錶麵損傷的體素修改,例如用於製造波導、光子晶體或高密度數據存儲的光學記錄。 第三部分:精密加工係統的工程實現與誤差控製 光學製造的精度最終取決於控製係統的能力。本部分著眼於支撐高精度加工的硬件和軟件集成。 超精密運動控製係統: 我們對先進的運動平颱進行瞭深入比較,包括空氣軸承、磁懸浮驅動係統和壓電驅動器(PZT)。核心內容在於如何實現納米級定位精度和皮秒級振動抑製,這要求對係統剛度、反饋迴路帶寬和係統延遲進行精確建模。 在位監測與反饋(In-situ Metrology): 為瞭實現閉環控製,實時測量至關重要。本書詳細介紹瞭共聚焦顯微技術、白光乾涉測量在加工過程中的應用,特彆是如何將這些測量信號快速可靠地轉換成加工參數修正量。重點分析瞭信號處理算法,如傅裏葉變換分析和卡爾曼濾波,在去除環境噪聲和提取真實錶麵形貌信息方麵的應用。 環境因素的控製: 詳細討論瞭溫度漂移、氣流擾動和電源噪聲對納米級加工精度的影響。內容涵蓋瞭如何設計和維護超淨室環境以及隔離光學平颱的隔振策略。 第四部分:新型加工方法與未來趨勢 本部分展望瞭光學製造領域的前沿技術和發展方嚮。 等離子體化學機械拋光(CMP): 探討瞭結閤等離子體刻蝕的材料去除機製與機械研磨的錶麵平整化效果,旨在超越傳統拋光的極限。 自適應光學在製造中的應用: 如何使用變形鏡技術,實時補償由熱梯度或機械應力引起的瞬時光學係統像差,從而在加工過程中保持光束質量的穩定。 人工智能在工藝優化中的角色: 介紹瞭如何利用機器學習模型,根據曆史加工數據和實時傳感器反饋,自動調整激光功率、掃描速度和焦點深度,實現“零缺陷”的自適應製造流程。 本書結構嚴謹,理論支撐充分,輔以大量實際工程案例分析,是光學工程師、精密儀器設計師以及相關領域研究人員不可或缺的參考資料。它不僅是理論的匯編,更是一本指導如何將復雜物理原理轉化為可量産高精度産品的實踐指南。