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激光能量高度集中,而且便于操控,能够进行精细加工。正因为这样,激光加工技术的应用非常迅猛,已经形成了庞大的产业。同时,激光精确加工的技术本身也在蓬勃发展。作为详细讲述这一领域诸多方面的专著,《激光精确微加工(英文影印版)》对于国内相关领域的工程师和科学家,以及研究生来说都是不可多得的佳作。
内容简介
小型化和高精度快速成为对很多工艺流程和产品的要求。因此,利用激光微加工技术来实现这一要求得到了广泛关注。《激光精确微加工(英文影印版)》内容有16章,覆盖了激光微处理技术的各个方面,从基本概念到在无机或生物材料上的工程应用。《激光精确微加工(英文影印版)》综述了在激光处理领域的研究和技术发展水平。读者对象为本领域的研究者和研究生。
作者简介
杉冈幸次(K. Sugioka),日本理化学研究所(RIKEN)研究员。
目录
Process Control in Laser Material Processing
for the Micro and Nanometer Scale Domains
Henry Helvajian
1.1 Introduction
1.2 Laser Processing
1.2.1 Laser Wavelength
1.2.2 Laser Power
1.2.3 Laser Dose
1.2.4 Laser Beam
1.2.5 Laser Pulse Temporal Profile
1.2.6 Pattern Generation
1.3 Possible Steps Forward
1.4 Conclusions
References
Theory and Simulation of Laser Ablation — from Basic
Mechanisms to Applications
Laurent J. Lewis and Danny Perez
2.1 Introduction
2.2 Basic Physics
2.2.1 Light—Matter Interaction
2.2.2 Material Removal from the Target:
The Basics of Ablation
2.3 Ablation in the Thermal Regime
2.3.1 Thermodynamics
2.3.2 Conventional Wisdom: Early Theories
2.3.3 A New Understanding
2.3.4 Computer Models
2.3.5 The Femtosecond Regime
2.3.6 Picosecond Pulses and Beyond
2.3.7 Molecular Solids
2.4 Materials Processing
2.4.1 Nanoparticle Production in Solvents
2.4.2 Damages and Heat Affected Zones
2.5 Conclusions and Perspectives
References
Laser Devices and Optical Systems for Laser Precision
Micro fabrication
4 Fundamentals of Laser—Material Interaction and Application to Multiscale Surface Modification
5 Temporal Pulse Tailoring in Ultrafast Laser Manufacturing Technologies
6 Laser Nanosurgery, Manipulation, and Transportationof Cells and Tissues
7 Laser Synthesis of Nanomaterials
8 UItrafast Laser Micro— and Nanostructuring
9 3D Fabrication of Embedded Microcomponents
10 Micromachining and Patterning
11 Laser Transfer Techniques for Digital Microfabrication
12 Hybrid Laser Processing of Transparent Materials
13 Drilling, Cutting, Welding, Marking and Microforming
Index
精彩书摘
《激光精确微加工(英文影印版)》:
A number of laser processing research studies have pointed to the use of morepulses and lower fluences. Consequently, this has generated interest on exploringthe effects of tailored photon fluxes on materials processing. How might a desiredphoton flux be expressed for an application? One approach could be in the form ofprescribed information scripts in which relevant processing parameters are definedand can be implemented by appropriate light valve devices on demand [64]. For thesystem to operate efficiently, the light valves must be integrated with in situ feedbackfrom the photophysical event. This is likely to come via spectroscopic signaturesthat are sensed and analyzed for deciding the next course of action. The practicalquestion is whether a photon flux control system, such as described, could be realized when operating at near real time processing speeds. The analysis is easier to dofor a direct-write patterning tool. Assume a processing laser with 50 MHz repetitionrate (pulses separated by 20 ns) that is brought to a 1 um (dia) focus on a target.Assume also that the patterning tool can move at a hefty speed of 1 m/sec (e.g.,Aerotech Corp. ABLS000 air bearing stage) which means that the patterning toolcan service 106 spot-sizes/sec. At the maximum velocity, the average time the patterning tool spends over a single spot-size is 1 us. There are now optical sensors withsubnanosecond response times and typical electrical signal transfer times in common cabling run about 3 ns/m. Microprocessor speeds have significantly evolved inthe past 15 years with the 2007 PC CPU tests showing the Intel CORE 2 ExtremeQX6800 processor capable of over 37 GFLOPS (Giga FLoating point OperationsPer Second). Finally, in the early 1990s, there was literature on acousto-optic modulators (e.g., Ti:LiNbO3) with bandwidths near 20 GHz [70] and current analog todigital convertors (ADCs) can operate up to 2 G samples per sec (e.g., Delphi Engineering ADC3244: 2GSPS, 10 bit accuracy and an integral field programmable gatearray). Given this information and the fact that for this example the average durationof time spent over a single spot-size is 1 us, it becomes possible to assemble a control system whereby information from a sensor is analyzed by the microprocessor(e.g., for GO/NO-GO or via a complex decision tree), and this information is sentto a light switch which either adds or subtracts extra laser pulses accordingly.
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前言/序言
现代光学制造技术:从理论到实践的深度探索 本书旨在为读者提供一个全面而深入的现代光学制造技术领域的知识框架,重点关注非接触式、高精度加工方法的最新发展与应用。全书内容覆盖了从基础物理原理到尖端工程实现的广泛议题,特别强调了如何利用先进的能量源和控制系统来应对精密光学元件制造中的严峻挑战。 第一部分:基础物理与加工机理 本部分首先回顾了与高精度加工密切相关的光学、材料科学及热力学基础。我们将详细阐述激光与物质相互作用的微观过程,包括光子的吸收、电子激发、等离子体形成以及随后的材料去除机制。不同波长(从紫外到红外)激光在不同材料(如玻璃、晶体、金属、半导体)中的耦合效率和等效加工阈值被系统地量化和比较。 特别关注的章节包括:超快激光脉冲的非热效应。这里深入探讨了皮秒和飞秒激光加工中独特的“冷加工”现象,阐明了如何通过极短的脉冲宽度实现最小化热影响区(HAZ)的刻蚀和切割,这对于制造高损伤阈值光学元件至关重要。同时,本书也分析了传统连续波(CW)和长脉冲激光在热扩散、熔融和重凝固过程中的物理模型,为优化热加载过程下的表面质量控制提供了理论依据。 第二部分:先进光学元件的制造工艺 这一部分聚焦于当前光学工业中最具挑战性的制造任务。内容涵盖了多种复杂表面的成型和修形技术。 自由曲面和非球面镜片的加工: 我们详细解析了如何利用磁流变抛光(MRF)技术实现对传统研磨无法达到的复杂曲率的亚纳米级表面粗糙度控制。MRF的流体力学模型、磨料的动力学行为以及工件与流体腔之间的精确耦合机制被置于核心地位。此外,离子束抛光(Ion Beam Figuring, IBF)作为后处理的终极手段,其离子源设计、束流均匀性以及材料去除率的精确标定也被详尽阐述。 微纳结构和衍射光学元件(DOE): 本部分深入探讨了深紫外(DUV)光刻在模具制造中的应用,以及直接激光写入技术(Two-Photon Polymerization, TPP)在制造高折射率聚合物三维微结构时的优势与限制。针对集成光学领域,本书提供了关于等离子体刻蚀(如反应离子刻蚀 RIE 和深亚微米深宽比的电感耦合等离子体刻蚀 ICP-RIE)的工艺窗口分析,指导读者在保持高侧壁垂直度的同时实现材料的精确去除。 透明材料的内建(In-Volume)加工: 这部分重点介绍了如何利用非线性聚焦(如克尔透镜效应或二次谐波产生)将能量耦合到透明介质内部,以实现无表面损伤的体素修改,例如用于制造波导、光子晶体或高密度数据存储的光学记录。 第三部分:精密加工系统的工程实现与误差控制 光学制造的精度最终取决于控制系统的能力。本部分着眼于支撑高精度加工的硬件和软件集成。 超精密运动控制系统: 我们对先进的运动平台进行了深入比较,包括空气轴承、磁悬浮驱动系统和压电驱动器(PZT)。核心内容在于如何实现纳米级定位精度和皮秒级振动抑制,这要求对系统刚度、反馈回路带宽和系统延迟进行精确建模。 在位监测与反馈(In-situ Metrology): 为了实现闭环控制,实时测量至关重要。本书详细介绍了共聚焦显微技术、白光干涉测量在加工过程中的应用,特别是如何将这些测量信号快速可靠地转换成加工参数修正量。重点分析了信号处理算法,如傅里叶变换分析和卡尔曼滤波,在去除环境噪声和提取真实表面形貌信息方面的应用。 环境因素的控制: 详细讨论了温度漂移、气流扰动和电源噪声对纳米级加工精度的影响。内容涵盖了如何设计和维护超净室环境以及隔离光学平台的隔振策略。 第四部分:新型加工方法与未来趋势 本部分展望了光学制造领域的前沿技术和发展方向。 等离子体化学机械抛光(CMP): 探讨了结合等离子体刻蚀的材料去除机制与机械研磨的表面平整化效果,旨在超越传统抛光的极限。 自适应光学在制造中的应用: 如何使用变形镜技术,实时补偿由热梯度或机械应力引起的瞬时光学系统像差,从而在加工过程中保持光束质量的稳定。 人工智能在工艺优化中的角色: 介绍了如何利用机器学习模型,根据历史加工数据和实时传感器反馈,自动调整激光功率、扫描速度和焦点深度,实现“零缺陷”的自适应制造流程。 本书结构严谨,理论支撑充分,辅以大量实际工程案例分析,是光学工程师、精密仪器设计师以及相关领域研究人员不可或缺的参考资料。它不仅是理论的汇编,更是一本指导如何将复杂物理原理转化为可量产高精度产品的实践指南。